公司主营产品稀土抛光粉，以其抛光效率高、使用寿命长、适用范围广的优异性，成为当今最受欢迎的精密抛光材料之一。近年来，随着电子信息技术的迅猛发展，现在全球每年对稀土抛光粉的需求大约在73000吨，据预测，未来5年需求将以每年超过30%的速度递增。公司始终致力于CMP抛光技术的发展和研究。在与2多家研究机构、知名学府、学者建立深层次合作基础上，经过多年大生产总结，自主研发的抛光粉制备工艺，在打破传统抛光粉制备模式，采用对抛光粉体球状化同时，通过添加表面修饰剂控制颗粒生长和团聚，使抛光粉颗粒细化具有核-壳（Core-shell）结构，生成外壳包覆具有较强切削力的氟氧化稀土抛光粉，内核则为球状柔软的稀土氧化物，大大提高了粉体的化学及物理抛光性能，保证了抛光过程中切削力和平整度的有机结合。通过抛光粉粒度控制、表面电荷控制、悬浮性控制、球形度控制和表面水化度控制等方面来确定其生产工艺方法与条件，使最终产品具有抛光速快、悬浮性好、悬浮液pH值和温度稳定、不发泡等特点。产品性能指标达到国际先进水平，可以完全取代进口抛光粉。